Skip navigation
Result
Title: Aspectos relacionados ao atrito no processo de polimento de rochas ornamentais
View/Open23 Isaias Pereira Seraco.pdf ( 328.02 kB )
Author: Seraco, Isaias Pereira
Silveira, Leonardo Luiz Lyrio da
Date of Public.: 2016
Publisher: CETEM/MCTIC
Citation: SERACO, I. P., SILVEIRA, L. L. L. S.. Aspectos relacionados ao atrito no processo de polimento de rochas ornamentais. In: JORNADA DE INICIAÇÃO CIENTÍFICA, 24., Rio de Janeiro. Anais... Rio de Janeiro: CETEM/MCTIC, 2016.
Abstract: A mitigação dos impactos ambientais oriundos dos processos de beneficiamento das rochas ornamentais é temática preponderante no atual cenário ambiental mundial e a economia de insumos é questão econômica indissociável frente à crise brasileira. No polimento, processo de beneficiamento onde ocorrem a planificação e promoção de brilho das chapas, a vazão de água adotada pela indústria é da ordem de 30 litros por minuto para cada satélite. Contudo, este parâmetro fica um tanto quanto vago quando busca-se fundamento teórico capaz de justificá-lo. O uso da água decorre da necessidade de se manter o conjunto rocha-rebolo abrasivo resfriado e ainda promover a limpeza da superfície trabalhada. As dúvidas sobre os fenômenos físico-químicos que ocorrem nesse regime ainda são relevantes, uma vez que poucos estudos mais aprofundados abordaram a temática sobre a ótica da eficiência acima dita. Sob esse aspecto, um parâmetro que ainda desperta interesse é o comportamento da temperatura da interface rocha-rebolo abrasivo, por não se saber a quais patamares chegam as temperaturas e o quanto de água é realmente necessária para resfriar o procedimento. Este trabalho busca apresentar uma contribuição teórica a respeito desse assunto, com foco nos fenômenos térmicos do processo em vista a fomentar estudos futuros que visem analisar na prática a influência desta grandeza no procedimento de polimento das placas de rochas ornamentais.
URL: http://mineralis.cetem.gov.br/handle/cetem/1890
Appears in Collections:Jornada de Iniciação Científica



The itens in the repository are protected by copyright with all rights reserved, except where indicated otherwise.